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Grain abrasif WA pour disque à liant résine

Le grain abrasif WA pour disques à liant résine est composé d’oxyde d’aluminium entièrement fondu. Figurant parmi les grains abrasifs les plus utilisés, le WFA offre d’excellentes propriétés d’auto-affûtage et de bonnes performances de meulage. Il est particulièrement performant pour l’acier inoxydable et les alliages métalliques ; les disques à liant résine fabriqués à partir de grains WFA présentent alors des performances supérieures. Par ailleurs, le coût de l’alumine fondue blanche WA est nettement inférieur à celui des abrasifs en alumine de zirconium et en alumine SG.

$810.00$850.00 / MT

Grain abrasif WA pour disque à liant résine

 

Le grain abrasif WA pour disques à liant résine est composé d’oxyde d’aluminium entièrement fondu. Figurant parmi les grains abrasifs les plus utilisés, le WFA offre d’excellentes propriétés d’auto-affûtage et de bonnes performances de meulage. Il est particulièrement performant pour l’acier inoxydable et les alliages métalliques ; les disques à liant résine fabriqués à partir de grains WFA présentent alors des performances supérieures. Par ailleurs, le coût de l’alumine fondue blanche WA est nettement inférieur à celui des abrasifs en alumine de zirconium et en alumine SG.

Nom du produit : WA, alumine blanche, oxyde d’aluminium blanc, WFA, alumine fondue blanche, Alox blanc, corindon blanc, alumine électrofondue, etc. branca, Alox branco, coríndon branco, alumina electrofundida)

 Caractéristiques du produit : Grain abrasif WA pour disque à liant résine
  1. Excellente capacité d’auto-affûtage.
  2. Dureté élevée.
  3. Facile à mélanger avec un colorant pour obtenir des cercles chromatiques.
  4. Bonne capacité de meulage. Permet un meulage précis des meules abrasives.
  5. Haute pureté d’Al2O3 avec de faibles teneurs en Na2O et en SiO2
  6. Convient à une large gamme de supports, notamment l’acier inoxydable, le fer, le métal, l’acier, etc.
Analyse chimique typique du grain abrasif WA pour disque à liant résine
AL2O3 99,62%
Fe2O3 0,02%
Na2O 0,18%
K 2 O 0,01%
SiO2 0,07%
Haut 0,02%
MgO 0,01%
LIO 0,05%

 

Propriétés physiques typiques du grain abrasif WA pour disque à liant résine
Dureté: Mohs : 9,0
Température maximale de service : 1900 degrés Celsius
Point de fusion: 2250 degrés Celsius
Densité relative : 3,95 g/cm³
densité volumique 3,6 g/ cm³
Masse volumique apparente (LPD) : 1,70 g/cm³
Blancheur: 85%
Rugosité de fraisage : 33,6%
Forme des particules : Angulaire
 Masse volumique apparente du grain abrasif WA pour disque à liant résine :
Granulométrie F Diamètre moyen en µm Masse volumique apparente (LPD) en g/cm³
F8 2460 1,79-1,88
F10 2085 1,78-1,88
F12 1765 1,78-1,87
F14 1470 1,77-1,86
F16 1230 1,75-1,85
F20 1040 1,74-1,85
F22 885 1,73-1,84
F24 745 1,73-1,83
F30 625 1,73-1,82
F36 525 1,72-1,82
F40 438 1,71-1,81
F46 370 1,70-1,80
F54 310 1,68-1,79
F60 260 1,68-1,78
F70 218 1,63-1,73
F80 185 1,61-1,71
F90 154 1,59-1,69
F100 129 1,58-1,68
F120 109 1,55-1,62
F150 82 15.2-1.61
F180 69 1,50-1,60
F220 58 1,48-1,58

 

Applications du grain abrasif WA pour disque à liant résine
  1. Disques de coupe et de meulage à liant résine.
  2. Meules à centre déporté.
  3. Disques en fibre.
  4. Blocs de ponçage.
  5. Meules vitrifiées.
  6. Meule à rectifier
  7. Roues de polissage.
  8. Pierre à aiguiser et pierre à roder.
  9. Cire à polir.
  10. Point de montage.
Spécifications du produit : Grain abrasif WA pour disque à liant résine
Granulométrie Tamis 1 % Tamis 2 % Tamis 3 % Tamis 4 % Tamis 5 %
F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000 µm ≥70% -1700 µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700 µm ≥70% -1400 µm ≤3%
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20% +1700 µm ≥45% +1700+1400 µm ≥70% -1180 µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20% +1400 µm ≥45% +1400+1180 µm ≥70% -1000 µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400 µm ≤20% +1180 µm ≥45% +1180+1000 µm ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850 µm ≥70% -710 µm ≤3%
F22 +1400 µm 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710 µm ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25% +710 µm ≥45% +710+600 µm ≥65% -500 µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500 µm ≥65% -425 µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425 µm ≥65% -355 µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425 µm ≤30% +355 µm ≥40% 355+300 µm ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250 µm ≥65% -212 µm ≤3%
F60 +425 µm 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212 µm ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212 µm ≥40% +212+180 µm ≥65% -150 µm ≤3%
F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25% +180 µm ≥40% +180+150 µm ≥65% -125 µm ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125 µm ≥65% -106 µm ≤3%
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20% +125 µm ≥40% +125+106 µm ≥65% -75 µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125 µm ≤20% ≥40% ≥40% +106+90 µm ≥65% -63 µm ≤3%
F150 +150 µm 0 +106 µm ≤15% +75 µm ≥40% +75+63 µm ≥65% -45 µm ≤3%
F180 +125 µm 0 +90 µm ≤15% +75 µm * +75+63 µm ≥40% -53 µm *
F220 +106 µm 0 +75 µm ≤15% +63 µm * +63+53um ≥40% -45 µm *
Productions et emballage :

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TDS non téléchargé

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